学术报告:二维原子层材料磁性的计算模拟研究

来源:武汉大学物理科学与技术学院    发布时间 : 2015/11/30      点击量:

报告时间:2015年12月7日上午9:00

报告地点:新物理楼五楼多功能报告厅

报告摘要:石墨烯因其独特的原子结构和新奇的物理化学特性激发了人们对单原子层材料极大的研究热情。探讨二维单原子层材料的磁性便是其中的一个重要研究课题。随着计算机硬件和软件技术的发展以及“材料基因工程”的实施,计算模拟已经成为新材料设计和合成的重要手段。本报告将重点讨论二维单原子层材料磁性的计算模拟研究,包括以下几个方面的内容:(1)石墨烯多孔化所引起的磁性;(2)BN单原子层和石墨烯杂化所引起的磁性;(3)表面修饰所引起的磁性;(4)金属有机单原子层材料的磁性;(5)单原子层MnX2(X=O, S, Se)的磁性;(5)CrX3单原子层材料的磁性(X=Cl, I, Br)。对这些体系的讨论可以加深对单原子层材料中磁耦合机理及其调控的认识,从而为新型磁性材料的合成提供理论支撑。

报告人简介:孙强获西南大学物理学士学位(1984),四川大学理论物理硕士学位(1987),南京大学凝聚态物理博士学位(1996)。曾任日本东北大学金属材料研究所COE研究员(1997年4月-1997年8月),助理教授(1997年8月-2003年7月),美国弗吉尼亚联邦大学物理系研究助理教授(2003年8月-2005年8月),研究副教授(2005年9月-2007年8月);北京大学工学院材料系教授(2007年9月-至今)他长期从事纳米结构的特性和应用研究。任美国物理联合会(AIP)主办的“Journal of Renewable and Sustainable Energy”副主编;任“Materials Transactions”编委;Annals of Materials Science & Engineering编委;任中国可再生能源学会氢能专业委员会理事。

邀请人:刘惠军教授


上一条:珞珈讲坛、长江学术论坛:拓扑绝缘体的边缘态与热电应用

下一条:学术报告:前瞻性半导体器件的研究(RRAM、InGaZnO TFT、14nm FinFET (metal gate/high-k))

联系我们

电话:027-68752161

邮箱:phy@whu.edu.cn