2018年10月14日-17日“ 第四届ALD应用国际会议暨2018年中国ALD学术会议”在深圳召开，我院研究生张恒荣获“中国ALD学生奖”唯一的金奖，陈雪获得青铜奖。

原子层沉积技术已广泛应用于许多领域，例如微电子，光电子，光学薄膜，纳米功能材料，微机电/纳米电磁系统，能量存储，生物技术，催化技术等等。这归功于原子层沉积技术一些独特的优势，例如纳米级厚度的精确控制，以及相对较低的沉积温度等。尤其在微电子领域，原子层沉积在先进的集成电路装备high-k金属栅极，隔离垫片，以及超薄铜互联扩散障碍等方面均有突出表现。此外，原子层沉积在太阳光电，柔性电子元件，有机电子，平板显示及其他新兴领域也越来越受重视。

“第四届ALD应用国际会议暨2018年中国ALD学术会议”作为国内规模最大、级别最高的原子层沉积技术方面的综合性学术会议，邀请到ALD技术方面很多资深的教授及研究者来做报告，旨在方便中国优秀科研工作者交流分享ALD技术的最新研究进展和相关领域的研究成果。很多国内外业界一流的研究者都做了精彩的大会报告和递交了高水平的海报和论文。大会设立了中国ALD学生奖，旨在表彰和鼓励在ALD领域表现出卓越水平的研究生。由咨询委员会成员综合学生奖申请人应提交审选出金、银和青铜奖并在颁奖典礼上颁发，大会设置金奖1名、银奖2名、青铜奖6名。我院研究生张恒凭借着自己出色的研究成果,最终从59篇学生论文中脱颖而出，获得中国ALD学生奖金奖。

（左七为陈雪，右三为张恒）